原创 外媒：中国买了超多ASML光刻机，10年不用愁，制造3nm芯片都行

从技术上来看，浸润式DUV光刻机，制造7nm芯片肯定是没有问题的，这已经是被验证过了，台积电第一代7nm也是浸润式DUV光刻机制造的，第二代才转向EUV。

浸润式DUV光刻机，制造5nm芯片，问题也不大，浸润式光刻机之父林本坚甚至称，用来制造3nm芯片也是可以的，只是需要多次曝光，让制造效率降低，同时多次曝光后，多次曝光之间的对准肯定就会没那么准了，所以良率会降低，会导致成本上升。

但是，如果你没有EUV，又想制造5nm、3nm芯片怎么办，那当然就不会去过多的考虑成本，先将芯片制造出来再说。

所以很明显，外媒分析的还真是真的，不说未来10年，未来5年使用的光刻机，其实不用太愁了，特别是浸润式DUV光刻机，本来一台的产能就非常高了，连续买了这么多年，买了这么多，肯定是没有什么问题的，我们已经提前为未来储备做了准备。

至于5-10年后，如今科技这么发达，也放根本就不需要5年，我们自己研发的浸润式光刻机，甚至EUV都出来了，那还担心什么呢，所以现在时间站在我们这边，不是在美国那边了。